MDA-400LJ/600LJ光刻機 光刻機 光刻機
光刻機又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統，光刻機，紫外曝光機等；
MIDAS為全球領先的半導體設備供應商，多年來致力于掩模對準光刻機和勻膠機研發與生產，并且廣泛應用于半導體、微電子、生物器件和納米科技領域；該公司是目前世界上最早將光刻機商品化的公司之一，擁有雄厚的技術研發力量和設備生產能力；并且其設備被眾多著名企業、研發中心、研究所和高校所采用；以優秀的技術、精湛的工藝和良好的服務，贏得了用戶的青睞。

產地：韓國MIDAS公司，唯一能做到圖形化藍寶石襯底（PSS）光刻機，高性價比
型號：MDA-400LJ/600LJ光刻機 光刻機
廠家鏈接：http://www.midas-china.com.cn/

MDA-400LJ

操(cao)作安裝(zhuang)方便，可(ke)處理各(ge)種尺寸的基板，采用(yong)UV-LED曝(pu)光(guang)模(mo)塊，UV-LED壽命長

?手動操作

?掩模(mo)版尺寸達5英寸

?基(ji)板尺寸為4英寸圓形

?均勻性光束尺寸125mm圓(yuan)

?UV光源UV LED

?光束波長(chang)365 nm

?光束均勻(yun)性(xing)<±3%

?365 nm強度 ~20 mW/?

?手動對準(zhun)

?對準精度1 um

?操(cao)作模式軟(ruan)、硬、真空接(jie)觸(chu)和(he)接(jie)近

?工藝分辨率：1 um@1 um PR厚度，真空(kong)接(jie)觸(chu)

?尺(chi)寸（mm）800（寬）*800（深）*800（高）

MDA-600LJ

操作(zuo)安裝方便，可處理各種尺寸的基板，采用(yong)UV-LED曝光模塊，UV-LED壽(shou)命長(chang)

?手(shou)動操作

?掩模版尺(chi)寸高達7英(ying)寸

?基(ji)板(ban)尺寸為6英寸圓形

?均勻光束尺(chi)寸(cun)170 mm圓

?UV光源：UV LED

?光束波長365 nm

?光束(shu)均勻性<±5%

?365 nm強度 ~20 mW/?

?手動對準

?對準精度(du)1 um

?操作模(mo)式：軟、硬(ying)、真空接觸和(he)接近

?工藝分辨率 1 um@1 um PR厚度，真空接觸

?重(zhong)量（kg）150

?尺寸（mm）800（寬(kuan)）*800（深）*800（高）