MDA-400LJ/600LJ光刻機 光刻機 光刻機
光刻機又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統，光刻機，紫外曝光機等；
MIDAS為全球領先的半導體設備供應商，多年來致力于掩模對準光刻機和勻膠機研發與生產，并且廣泛應用于半導體、微電子、生物器件和納米科技領域；該公司是目前世界上最早將光刻機商品化的公司之一，擁有雄厚的技術研發力量和設備生產能力；并且其設備被眾多著名企業、研發中心、研究所和高校所采用；以優秀的技術、精湛的工藝和良好的服務，贏得了用戶的青睞。

產地：韓國MIDAS公司，唯一能做到圖形化藍寶石襯底（PSS）光刻機，高性價比
型號：MDA-400LJ/600LJ光刻機 光刻機
廠家鏈接：http://www.midas-china.com.cn/

MDA-400LJ

操作安裝方便，可處(chu)理(li)各種尺寸的基板，采用UV-LED曝光模塊，UV-LED壽命(ming)長(chang)

?手動(dong)操(cao)作

?掩模版尺寸(cun)達5英(ying)寸(cun)

?基板尺(chi)寸為(wei)4英寸圓(yuan)形

?均勻(yun)性光束尺寸125mm圓

?UV光源UV LED

?光(guang)束波長365 nm

?光束(shu)均勻性(xing)<±3%

?365 nm強度 ~20 mW/?

?手動對(dui)準(zhun)

?對準精度1 um

?操(cao)作(zuo)模式軟、硬、真空(kong)接(jie)觸和接(jie)近

?工藝分辨率(lv)：1 um@1 um PR厚度，真(zhen)空接觸

?尺(chi)寸(cun)（mm）800（寬）*800（深）*800（高）

MDA-600LJ

操作安裝方(fang)便，可處(chu)理(li)各種尺寸(cun)的基(ji)板，采用UV-LED曝(pu)光模塊，UV-LED壽命(ming)長

?手動操作

?掩模版尺寸高達7英寸

?基板(ban)尺寸為6英寸圓(yuan)形(xing)

?均(jun)勻光束尺寸170 mm圓

?UV光源：UV LED

?光束波長365 nm

?光束(shu)均(jun)勻性<±5%

?365 nm強度 ~20 mW/?

?手動對(dui)準

?對準精度(du)1 um

?操(cao)作模式：軟、硬(ying)、真(zhen)空接觸和(he)接近

?工藝分辨率 1 um@1 um PR厚度，真空接觸

?重量(liang)（kg）150

?尺寸（mm）800（寬）*800（深）*800（高(gao)）