光刻系統
MDA-600S光刻機
光刻機又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統，光刻機，紫外曝光機等；
MIDAS為全球領先的半導體設備供應商，多年來致力于掩模對準光刻機和勻膠機研發與生產，并且廣泛應用于半導體、微電子、生物器件和納米科技領域；該公司是目前世界上最早將光刻機商品化的公司之一，擁有雄厚的技術研發力量和設備生產能力；并且其設備被眾多著名企業、研發中心、研究所和高校所采用；以優秀的技術、精湛的工藝和良好的服務，贏得了用戶的青睞。
產地：韓國MIDAS公司，唯一能做到圖形化藍寶石襯底（PSS）光刻機，高性價比
型號：MDA-600S
廠家鏈接：http://www.midas-china.com.cn/
主要特點:
- 光(guang)源強(qiang)度可控(kong)；
- 紫外(wai)曝光，深(shen)紫外(wai)曝光(Option)；
- 系統控(kong)制(zhi)：手(shou)動、半自動和全自動控(kong)制(zhi)；
- 曝光模式：真空接(jie)觸(chu)模式(接(jie)觸(chu)力可(ke)調(diao)),Proximity接(jie)近模式, 投(tou)影模式；
- 真空(kong)吸盤范圍可調(diao)；
- 專利技(ji)術：可雙(shuang)面對準，可雙(shuang)面光刻(ke)，具有IR和(he)CCD模式
- 雙CCD顯微鏡系統，最大放大1000倍，顯示屏直接(jie)調節，比傳統目鏡對準更方便(bian)快捷，易(yi)于(yu)操作。
- 特殊(shu)的基底卡(ka)盤可定做；
- 具有楔形(xing)補償功能；
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