光刻系統
MDA-600S光刻機
光刻機又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統，光刻機，紫外曝光機等；
MIDAS為全球領先的半導體設備供應商，多年來致力于掩模對準光刻機和勻膠機研發與生產，并且廣泛應用于半導體、微電子、生物器件和納米科技領域；該公司是目前世界上最早將光刻機商品化的公司之一，擁有雄厚的技術研發力量和設備生產能力；并且其設備被眾多著名企業、研發中心、研究所和高校所采用；以優秀的技術、精湛的工藝和良好的服務，贏得了用戶的青睞。
產地：韓國MIDAS公司，唯一能做到圖形化藍寶石襯底（PSS）光刻機，高性價比
型號：MDA-600S
廠家鏈接：http://www.midas-china.com.cn/
主要特點:
- 光源(yuan)強度可控；
- 紫外曝(pu)光(guang)，深紫外曝(pu)光(guang)(Option)；
- 系統(tong)控制：手動(dong)、半自(zi)動(dong)和全自(zi)動(dong)控制；
- 曝光模式(shi)：真空接觸模式(shi)(接觸力可調),Proximity接近模式(shi), 投(tou)影模式(shi)；
- 真空吸盤范圍可(ke)調；
- 專(zhuan)利技術：可雙面對準(zhun)，可雙面光刻，具(ju)有IR和CCD模式
- 雙CCD顯微鏡系統，最大放大1000倍(bei)，顯示屏(ping)直接調節，比傳統目鏡對(dui)準更(geng)方便快捷，易于操作。
- 特殊(shu)的基底卡盤可定做；
- 具(ju)有(you)楔形補償功能(neng)；
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