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光刻系統

  • MDA-80MS光刻機
MDA-80MS光刻機

MDA-80MS光刻機

MDA-80MS光刻機
光刻機又名:掩模對準曝光機,曝光系統,光刻系統,光刻機,紫外曝光機等;
MIDAS為全球領先的半導體設備供應商,多年來致力于掩模對準光刻機和勻膠機研發與生產,并且廣泛應用于半導體、微電子、生物器件和納米科技領域;該公司是目前世界上最早將光刻機商品化的公司之一,擁有雄厚的技術研發力量和設備生產能力;并且其設備被眾多著名企業、研發中心、研究所和高校所采用;以優秀的技術、精湛的工藝和良好的服務,贏得了用戶的青睞。

產地:韓國MIDAS公司,唯一能做到圖形化藍寶石襯底(PSS)光刻機,高性價比
型號:MDA-80MS
廠家鏈接:http://www.midas-china.com.cn/


MDA-80MS

簡單的操作(zuo)和安裝,PLC操作(zuo)與PC控制,小(xiao)型半自動系統,圖像抓取和數據記錄,100多個程序配方

?PC控(kong)制,半自動操(cao)作

?掩模版尺(chi)寸(cun)達到9英(ying)寸(cun)

?基板尺寸(cun)為8英寸(cun)

?均勻光束(shu)尺(chi)寸(cun)8.25*8.25英寸(cun)

?光(guang)源:紫外線(xian)燈,1 kW

?光束波長350~450 nm

?光束均勻性 <±5%

?365 nm強度 ~25 mW/?

?手動操作(zuo)

?對準精度(du)1 um

?操作模(mo)式:軟(ruan)、硬、真空接觸和接近

?工藝分辨(bian)率(lv):1 um@1 um PR厚度,真(zhen)空接觸

?尺寸(mm):1400(寬)*1100(深(shen))*1600(高)


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