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光刻系統

  • MDA-80SA光刻機
MDA-80SA光刻機

MDA-80SA光刻機

MDA-80SA光刻機
光刻機又名:掩模對準曝光機,曝光系統,光刻系統,光刻機,紫外曝光機等;

MIDAS為全球(qiu)領先的(de)(de)半導體設(she)(she)備(bei)供應商,多年來致力(li)于(yu)掩模對準(zhun)光刻機和(he)(he)(he)勻膠機研發與生(sheng)(sheng)產,并且(qie)廣泛(fan)應用于(yu)半導體、微電子、生(sheng)(sheng)物器件和(he)(he)(he)納米(mi)科技(ji)領域(yu);該(gai)公司是目(mu)前世界上最早將光刻機商品化的(de)(de)公司之一,擁有雄(xiong)厚(hou)的(de)(de)技(ji)術研發力(li)量(liang)和(he)(he)(he)設(she)(she)備(bei)生(sheng)(sheng)產能力(li);并且(qie)其(qi)設(she)(she)備(bei)被眾(zhong)多著名企業、研發中心、研究(jiu)所和(he)(he)(he)高校(xiao)所采用;以優秀的(de)(de)技(ji)術、精湛的(de)(de)工藝和(he)(he)(he)良好的(de)(de)服(fu)務,贏得了(le)用戶的(de)(de)青睞(lai)。


產地:韓國MIDAS公司,唯一能做到圖形化藍寶石襯底(PSS)光刻機,高性價比

型號:MDA-80SA

廠家鏈接:http://www.midas-china.com.cn/

易于操(cao)作的用戶界面,PLC操(cao)作與PC控制(zhi),圖像抓取和(he)數據(ju)日志,100多個程序(xu)配方(fang),電(dian)動操(cao)縱桿(gan)控制(zhi),電(dian)動變焦顯微(wei)鏡和(he)樣品(pin)臺

?操縱桿(gan)控制,半自動

?掩模版尺(chi)寸高達9英寸

?基板尺寸(cun)6~8英寸(cun)

?均勻光束尺寸(cun)10.25*10.25英寸(cun)

?紫(zi)(zi)外(wai)線光源(yuan):紫(zi)(zi)外(wai)線燈,2 kW

?光(guang)束波長350~450 nm

?光(guang)束均勻性<±5%

?365 nm強度~25 mW/?

?定位方法:操縱(zong)桿控制,半自動

?對準精度1 um

?操(cao)作模(mo)式:軟、硬、真空接觸和接近

?工藝(yi)分辨率(lv):1 um@1 um PR厚度,真空(kong)接觸


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