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光刻系統

  • MDA-12SA光刻機
MDA-12SA光刻機

MDA-12SA光刻機

MDA-12SA光刻機
光刻機又名:掩模對準曝光機,曝光系統,光刻系統,光刻機,紫外曝光機等;
MIDAS為全球領先的半導體設備供應商,多年來致力于掩模對準光刻機和勻膠機研發與生產,并且廣泛應用于半導體、微電子、生物器件和納米科技領域;該公司是目前世界上最早將光刻機商品化的公司之一,擁有雄厚的技術研發力量和設備生產能力;并且其設備被眾多著名企業、研發中心、研究所和高校所采用;以優秀的技術、精湛的工藝和良好的服務,贏得了用戶的青睞。

產地:韓國MIDAS公司,唯一能做到圖形化藍寶石襯底(PSS)光刻機,高性價比
型號:MDA-12SA
廠家鏈接:http://www.midas-china.com.cn/


操(cao)作(zuo)(zuo)簡單,可編程控(kong)制器(qi)(PLC)操(cao)作(zuo)(zuo),PC控(kong)制,圖像采集(ji)和(he)(he)數據(ju)記錄(lu),100多(duo)個程序(xu)配方(fang),電動(dong)操(cao)縱桿控(kong)制,電動(dong)變焦顯(xian)微鏡(jing)和(he)(he)工作(zuo)(zuo)臺(tai),顯(xian)微鏡(jing)位置控(kong)制系統

?操(cao)縱桿控制,半自動

?掩(yan)模版尺(chi)寸高達14英寸

?基板尺寸(cun)8~12英寸(cun)

?均勻光束尺(chi)寸(cun)13.25*13.25英寸(cun)

?紫(zi)外線光源:紫(zi)外線燈,2 kW,5 kW

?光束(shu)波(bo)長:350~450 nm

?光(guang)束均(jun)勻性:<±5%

?365 nm強(qiang)度(du):2 kW:~25 mW/?,5 kW:~45 mW/?

?定位方法:操縱桿控制,半自動

?對準精度:1 um

?操作(zuo)模式:軟、硬、真空接(jie)觸和接(jie)近

?工藝分辨率:2 um@1 um PR厚(hou)度(du),真空接觸



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