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光刻系統

  • MDA-12SA光刻機
MDA-12SA光刻機

MDA-12SA光刻機

MDA-12SA光刻機
光刻機又名:掩模對準曝光機,曝光系統,光刻系統,光刻機,紫外曝光機等;
MIDAS為全球領先的半導體設備供應商,多年來致力于掩模對準光刻機和勻膠機研發與生產,并且廣泛應用于半導體、微電子、生物器件和納米科技領域;該公司是目前世界上最早將光刻機商品化的公司之一,擁有雄厚的技術研發力量和設備生產能力;并且其設備被眾多著名企業、研發中心、研究所和高校所采用;以優秀的技術、精湛的工藝和良好的服務,贏得了用戶的青睞。

產地:韓國MIDAS公司,唯一能做到圖形化藍寶石襯底(PSS)光刻機,高性價比
型號:MDA-12SA
廠家鏈接:http://www.midas-china.com.cn/


操(cao)作(zuo)簡單,可編程控制(zhi)(zhi)器(PLC)操(cao)作(zuo),PC控制(zhi)(zhi),圖像采集(ji)和(he)數據記錄(lu),100多個程序配方(fang),電動操(cao)縱桿控制(zhi)(zhi),電動變焦顯微鏡(jing)和(he)工作(zuo)臺,顯微鏡(jing)位(wei)置控制(zhi)(zhi)系統(tong)

?操縱桿(gan)控制,半自動

?掩模版尺寸高達(da)14英(ying)寸

?基(ji)板尺寸8~12英(ying)寸

?均勻光束尺(chi)寸(cun)13.25*13.25英寸(cun)

?紫(zi)外線(xian)光源:紫(zi)外線(xian)燈,2 kW,5 kW

?光束(shu)波長:350~450 nm

?光束均勻性:<±5%

?365 nm強(qiang)度:2 kW:~25 mW/?,5 kW:~45 mW/?

?定位方(fang)法:操縱(zong)桿控制(zhi),半自動

?對準精度(du):1 um

?操作模式:軟、硬、真空(kong)接(jie)觸和接(jie)近

?工藝分(fen)辨率(lv):2 um@1 um PR厚度(du),真空(kong)接觸



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