MDA-40FA/60FA全自動光刻機
MIDAS SYSTEM公司開發并生產用于半導體、MEMS、LED及納米技術相關的實驗室和工業領域的光罩對準曝光機和甩膠機，是韓國第一家研發并商業化光罩對準曝光機的企業，始終致力于不斷完善、增強技術型企業的核心競爭力。

MIDAS SYSTEM公司具有專業化的設計團隊，以客戶需要為己任，生產、供應滿足國內外企業、科研院所不斷增長的應用需求，并且提供半導體工藝相關的設備需要。

MDA-40FA/60FA型曝光機是一款MIDAS公司新開發的產品，代表了下一代全區域光刻系統。這一新型半自動化對準曝光平臺具有更高的重復光刻精度以及更可靠的操作，非常適合陶瓷及其他探針卡應用，同時MDA-12SA型半動化光罩對準曝光機具有更高的生產能力和容易操控。
廠家鏈接：www.midas-china.com.cn

MDA-40FA

操作簡單，PLC操作，PC控(kong)(kong)制，圖(tu)像采集(ji)和數據(ju)記(ji)錄，100多個程序配方，顯(xian)微鏡位置控(kong)(kong)制系(xi)統(tong)，自動對(dui)齊(qi)標記(ji)搜(sou)索(suo)功(gong)能

類型：全自(zi)動

掩模版(ban)尺寸(cun)：最大5英寸(cun)

基板尺寸(cun)：2~4英(ying)寸(cun)

均勻光束尺寸(cun)：6.25*6.25英(ying)寸(cun)

紫外光源：紫外燈(deng)，350W

光束(shu)波長：350~450nm

光束均勻度<±3%

365 nm強度  ~25 mW/?

對齊方式：全自動

對(dui)準(zhun)精度(du)：1 um

加(jia)工方(fang)式：軟、硬、真空接(jie)觸、接(jie)近(jin)

工藝分辨率：1μm@1μm PR厚度，真空接觸

MDA-60FA

操(cao)(cao)作(zuo)簡(jian)單，PLC操(cao)(cao)作(zuo)，PC控(kong)制(zhi)，圖像采集和數(shu)據記錄，100多個程序(xu)配方，顯微鏡位置控(kong)制(zhi)系統，自動(dong)對齊標(biao)記搜(sou)索功(gong)能

類(lei)型(xing)：全自動

掩模版尺寸：最大7英寸

基板尺寸：4~6英寸

均勻光(guang)束尺寸：6.25*6.25英(ying)寸

紫外光源(yuan)：紫外燈，350W

光(guang)束波(bo)長：350~450nm

光(guang)束均勻度(du)<±5%

365 nm強度  ~25 mW/?

對(dui)齊方式：全(quan)自動

對準(zhun)精度：1 um

加工方式：軟、硬、真空(kong)接觸、接近(jin)

工(gong)藝分辨率：1μm@1μm PR厚度，真空(kong)接觸(chu)