MDA-40FA/60FA全自動光刻機
MIDAS SYSTEM公司開發并生產用于半導體、MEMS、LED及納米技術相關的實驗室和工業領域的光罩對準曝光機和甩膠機，是韓國第一家研發并商業化光罩對準曝光機的企業，始終致力于不斷完善、增強技術型企業的核心競爭力。

MIDAS SYSTEM公司具有專業化的設計團隊，以客戶需要為己任，生產、供應滿足國內外企業、科研院所不斷增長的應用需求，并且提供半導體工藝相關的設備需要。

MDA-40FA/60FA型曝光機是一款MIDAS公司新開發的產品，代表了下一代全區域光刻系統。這一新型半自動化對準曝光平臺具有更高的重復光刻精度以及更可靠的操作，非常適合陶瓷及其他探針卡應用，同時MDA-12SA型半動化光罩對準曝光機具有更高的生產能力和容易操控。
廠家鏈接：www.midas-china.com.cn

MDA-40FA

操(cao)作簡單，PLC操(cao)作，PC控制(zhi)，圖(tu)像(xiang)采集和數據記(ji)錄，100多個程序配方，顯微鏡位置控制(zhi)系統，自(zi)動(dong)對齊標(biao)記(ji)搜(sou)索功(gong)能(neng)

類型(xing)：全自(zi)動

掩(yan)模版尺寸：最(zui)大(da)5英(ying)寸

基板尺寸(cun)：2~4英寸(cun)

均勻(yun)光束(shu)尺寸：6.25*6.25英寸

紫外光(guang)源：紫外燈(deng)，350W

光束波長：350~450nm

光束均勻度(du)<±3%

365 nm強度  ~25 mW/?

對齊方(fang)式：全自動

對準(zhun)精(jing)度：1 um

加工方式：軟、硬、真空接觸(chu)、接近

工藝分辨率：1μm@1μm PR厚度，真空(kong)接觸

MDA-60FA

操作簡單，PLC操作，PC控(kong)(kong)制(zhi)，圖像采集和數(shu)據(ju)記錄，100多(duo)個(ge)程序(xu)配方，顯微鏡位置(zhi)控(kong)(kong)制(zhi)系統，自動對齊標記搜(sou)索功能

類型：全自動

掩模版尺(chi)寸：最大7英寸

基板尺寸：4~6英寸

均勻光束(shu)尺寸：6.25*6.25英寸

紫外光源：紫外燈，350W

光束波長：350~450nm

光束均勻(yun)度<±5%

365 nm強度  ~25 mW/?

對齊方式(shi)：全自動

對準精度：1 um

加工方式：軟、硬、真空(kong)接觸、接近

工藝分辨率：1μm@1μm PR厚度，真(zhen)空(kong)接觸