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光刻系統

  • MDA-20FA全自動光刻機
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MDA-20FA全自動光刻機MDA-20FA全自動光刻機MDA-20FA全自動光刻機

MDA-20FA全自動光刻機

MDA-20FA全自動光刻機
MIDAS SYSTEM公司開發并生產用于半導體、MEMS、LED及納米技術相關的實驗室和工業領域的光罩對準曝光機和甩膠機,是韓國第一家研發并商業化光罩對準曝光機的企業,始終致力于不斷完善、增強技術型企業的核心競爭力。

MIDAS SYSTEM公司具有專業化的設計團隊,以客戶需要為己任,生產、供應滿足國內外企業、科研院所不斷增長的應用需求,并且提供半導體工藝相關的設備需要。

MDA-20FA型曝光機是一款MIDAS公司新開發的產品,代表了下一代全區域光刻系統。這一新型半自動化對準曝光平臺具有更高的重復光刻精度以及更可靠的操作,非常適合陶瓷及其他探針卡應用,同時MDA-12SA型半動化光罩對準曝光機具有更高的生產能力和容易操控。
廠家鏈接:www.midas-china.com.cn

MDA-20FA

操作(zuo)簡單,PLC操作(zuo),PC控制,圖像采集和數據記錄(lu),100多個程(cheng)序配(pei)方,顯微鏡位置控制系統,自動對齊標記搜索功能


類型:全(quan)自(zi)動

掩模版尺寸:大尺寸訂制

基板尺寸:大尺寸訂制

均(jun)勻光束尺寸:大尺寸訂制

紫(zi)外線光(guang)源:紫(zi)外線燈,2KW,5KW

光(guang)束波長:350~450nm

光束均勻度 <±5%

365 nm強度 2千瓦:~25毫瓦/?5千瓦:~45毫瓦/?

對(dui)齊方(fang)式:全自(zi)動

對準(zhun)精度:1 um

加(jia)工(gong)方式:軟、硬、真空接(jie)觸、接(jie)近

過(guo)程分辨(bian)率(lv):透鏡:>3 um,反射鏡:>9 um


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