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MDE-200SC
易(yi)于操作和安(an)裝，處(chu)理各(ge)種尺寸的基板(ban)，掃(sao)描和步進式曝光
類(lei)型：掃描步進(jin)曝(pu)光(guang)
掩模版尺寸(cun)：大尺寸(cun)訂(ding)制(zhi)
基板尺(chi)(chi)寸(cun)：大尺(chi)(chi)寸(cun)訂制
均勻光束尺(chi)寸(cun)：大尺(chi)寸(cun)訂制
紫外光(guang)源：紫外燈，1KW
光束(shu)波長：350~450nm
光束均勻度 <±5%
365 nm強度 ~25 mW/?
對齊方式：無對準
對(dui)準精度：無對(dui)準
加工(gong)方式(shi)：軟、硬、真空接觸、接近
工藝分辨率：2 um@1 um PR厚度，真空接觸
聯系(xi)人：張(zhang)垚(yao)
手(shou)機(ji)：13916855175
電(dian)話(hua)：021-56035615
郵箱：info@cqjswh.com
地(di)址： 上(shang)海市楊浦區松花江路(lu)251弄白(bai)玉蘭環保廣場(chang)3號902室
