MDE-200SC
易于操作和安裝,處(chu)理各種(zhong)尺寸的基板(ban),掃描和步進式(shi)曝光(guang)
類型:掃描步(bu)進曝光
掩模版(ban)尺寸(cun):大(da)尺寸(cun)訂制
基板尺(chi)寸(cun):大尺(chi)寸(cun)訂制(zhi)
均勻光束尺寸(cun):大尺寸(cun)訂制
紫(zi)(zi)外(wai)光源:紫(zi)(zi)外(wai)燈,1KW
光(guang)束波長(chang):350~450nm
光束均勻度 <±5%
365 nm強度 ~25 mW/?
對(dui)齊方式:無對(dui)準
對(dui)準(zhun)精度:無對(dui)準(zhun)
加工方式(shi):軟、硬(ying)、真空接觸、接近
工(gong)藝分辨率:2 um@1 um PR厚度,真空接(jie)觸
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