MDE-200SC
易于操作(zuo)和(he)安裝,處理各(ge)種尺寸的(de)基板,掃(sao)描(miao)和(he)步進式曝光
類型(xing):掃描步進曝光(guang)
掩模版尺(chi)寸:大尺(chi)寸訂制
基板尺寸:大尺寸訂制
均勻(yun)光束尺(chi)寸(cun):大尺(chi)寸(cun)訂制
紫(zi)外光源:紫(zi)外燈,1KW
光束波長(chang):350~450nm
光束均勻度 <±5%
365 nm強度 ~25 mW/?
對齊方式:無對準
對準(zhun)精度:無對準(zhun)
加工方式:軟、硬、真空(kong)接觸、接近
工藝分辨率(lv):2 um@1 um PR厚度,真空接(jie)觸
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