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光刻系統

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SPIN-1200T勻膠機SPIN-1200T勻膠機

SPIN-1200T勻膠機

勻膠機
勻膠機有很多種稱謂,英文叫Spin Coater或者Spin Processor,又稱甩膠機、勻膠臺、旋轉涂膠機、旋轉涂膜機、旋轉涂層機、旋轉涂布機、旋轉薄膜機、旋轉涂覆儀、旋轉涂膜儀、勻膜機,總的來說,他們原理都是一樣的,既在高速旋轉的基片上,滴注各類膠液,利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上,厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數而不同,也和旋轉速度及時間有關。
勻膠機適用于半導體、硅片、晶片、基片、導電玻璃及制版等表面涂覆工藝, 可在工礦企業、科研、教育等單位作生產、科研、教學之用。勻膠機可以用于制作低于10nm厚度的薄膜,并且在清洗和刻蝕中也被廣泛使用。

由我(wo)司提(ti)供的勻(yun)膠機(ji),在高(gao)校(xiao)、研究所及半(ban)導體產業享有很(hen)高(gao)的聲譽,相信能滿足您多種不同應(ying)用(yong)要求。


產地:韓國MIDAS公司,
型號:SPIN-1200T
廠家鏈接:http://www.midas-china.com.cn/

SPIN-1200T

觸摸面板(ban)控制(zhi),各種涂層(ceng)溶(rong)液的緊湊單元,可(ke)編程配(pei)方管(guan)理,操作簡單

?勻膠機

?基板尺寸(cun):小于等(deng)于4英寸(cun)

?轉速:300~7000 rpm(空載時),誤差小(xiao)于3%(海外10000 rpm)

?菜(cai)單程序:50步,50個配方

?卡盤材(cai)料:改性鋁、縮醛

?碗尺寸:8英寸

?碗材料:聚丙烯(xi)

?尺寸(mm)230(寬)*340(深)*260(高)


應用范圍:
可用于光刻膠(PR),聚酰亞胺(Polyimide),金屬有機物(Metallo-organics),攙雜劑(Dopant),硅薄膜(Silica Film),以及大多數的有機溶液、水溶液;

全自動的勻膠及顯影工藝必需的全自動Chip生產設備:

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