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薄膜半導體材料制備系統

  • 超高真空多腔室物理氣相沉積系統
超高真空多腔室物理氣相沉積系統

超高真空多腔室物理氣相沉積系統

  • 極限真空:5E-10torr
  • 產品描述:超高真空多腔室物理氣相沉積系統

高真空(kong)多(duo)腔(qiang)室物理氣相沉(chen)積系統(PVD)

該系統由全球專業的(de)沉(chen)(chen)(chen)積設(she)備商制造,配置多種(zhong)沉(chen)(chen)(chen)積方式(shi)(預留各(ge)種(zhong)功能接口),高度靈活,非常適合多種(zhong)沉(chen)(chen)(chen)積模式(shi)的(de)科(ke)研.

目前該系統的(de)超高(gao)真(zhen)空條件(jian)沉(chen)(chen)積(ji)(ji)模式(shi)(僅(jin)用機(ji)械泵+分(fen)子(zi)泵,極限(xian)真(zhen)空可達5X10E-10Torr)。多(duo)種組(zu)合(he)沉(chen)(chen)積(ji)(ji)模式(shi),同一腔體實現多(duo)種功能(neng)沉(chen)(chen)積(ji)(ji)方式(shi),沉(chen)(chen)積(ji)(ji)源模式(shi)有(you):
磁控濺(jian)射源
電(dian)子束蒸(zheng)發(fa)源(yuan)
熱蒸(zheng)發源
該系(xi)(xi)統高(gao)度靈活,軟件操作方(fang)便(bian),專(zhuan)業為(wei)研究機構(gou)沉積超(chao)純度薄膜,是真(zhen)(zhen)正的超(chao)高(gao)真(zhen)(zhen)空沉積系(xi)(xi)統。
技術參數(shu):
極限真空: <5x 10E-10 torr(經過24小時烘烤冷卻(que)后);
鍍(du)膜均(jun)勻度(du):<3%
樣(yang)品傳(chuan)送(song): 便(bian)捷(jie)安(an)放上置襯底
機柜: 占用空間小結構;
樣品(pin)臺(tai)工作: 旋轉, 加熱, 加載偏壓;
樣(yang)品操(cao)作: 預抽真空室;
樣品尺寸: 1”、 2”、 3”、 4” 、8”、12”等;
膜厚監控: 石英晶體(ti)微天平(ping), 橢偏儀(yi);
烘烤: 內(nei)置加熱或外置保(bao)溫(wen)加熱;
簡(jian)單(dan)方便 的(de)全(quan)自動軟(ruan)件操作(zuo):全(quan)自動抽取(qu)真空并且(qie)程序自動運行(xing)。

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