超(chao)高真空多腔室(shi)物理(li)氣相沉積(ji)系(xi)統（PVD）

該(gai)系統(tong)由全(quan)球專業的(de)沉(chen)積設備(bei)商(shang)制造,配置多種(zhong)沉(chen)積方式(shi)(預留各種(zhong)功能接口),高度靈活,非常(chang)適合多種(zhong)沉(chen)積模(mo)式(shi)的(de)科研(yan).

目前該系統的超高真(zhen)空條件沉積模(mo)式(shi)(shi)（僅(jin)用(yong)機械泵+分子(zi)泵，極限(xian)真(zhen)空可達(da)5X10E-10Torr）。多種組合(he)沉積模(mo)式(shi)(shi)，同(tong)一腔(qiang)體實現多種功(gong)能(neng)沉積方式(shi)(shi)，沉積源模(mo)式(shi)(shi)有:
磁控濺射源(yuan)
電子束蒸發(fa)源(yuan)
熱蒸發源(yuan)
該系統(tong)高度靈活，軟件操(cao)作方(fang)便(bian)，專(zhuan)業為研究機構沉積超純度薄膜，是(shi)真正(zheng)的(de)超高真空沉積系統(tong)。
技術參數：
極限真空: <5x 10E-10 torr(經過(guo)24小時烘烤(kao)冷卻后)；
鍍膜均勻度：<3%
樣品傳送(song): 便捷(jie)安放上(shang)置襯(chen)底
機柜: 占用空間小(xiao)結構(gou)；
樣品臺工(gong)作: 旋轉(zhuan), 加熱, 加載偏壓(ya)；
樣品操作: 預抽真空室；
樣品尺寸: 1”、 2”、 3”、 4” 、8”、12”等；
膜厚監控: 石英晶體微天平, 橢偏儀(yi)；
烘烤: 內(nei)置加熱或外(wai)置保溫(wen)加熱；
簡單(dan)方便 的全(quan)自動軟件操(cao)作(zuo)：全(quan)自動抽取(qu)真空并且程(cheng)序自動運行。