超高真空多腔室物(wu)理氣(qi)相(xiang)沉積(ji)系(xi)統（PVD）

該系(xi)統由(you)全球專(zhuan)業(ye)的(de)沉(chen)積設備商制(zhi)造,配置多種沉(chen)積方(fang)式(預留各種功能接口),高度靈活,非(fei)常適合(he)多種沉(chen)積模(mo)式的(de)科研.

目前該系統的超高(gao)真(zhen)(zhen)空條件沉積(ji)模式(shi)（僅用(yong)機械泵(beng)+分子泵(beng)，極限(xian)真(zhen)(zhen)空可達5X10E-10Torr）。多種(zhong)組合沉積(ji)模式(shi)，同一腔體實現多種(zhong)功(gong)能(neng)沉積(ji)方式(shi)，沉積(ji)源模式(shi)有:
磁控濺射源(yuan)
電子束蒸發源
熱蒸發源(yuan)
該系統高(gao)(gao)度靈活，軟件操作方便，專業為(wei)研(yan)究機(ji)構沉(chen)積超純度薄膜(mo)，是真正的(de)超高(gao)(gao)真空沉(chen)積系統。
技(ji)術參數：
極限真空: <5x 10E-10 torr(經過24小(xiao)時烘烤(kao)冷卻后)；
鍍膜均(jun)勻度：<3%
樣(yang)品(pin)傳送: 便捷安放上置(zhi)襯底
機(ji)柜: 占(zhan)用空(kong)間小結構；
樣品臺工作: 旋轉(zhuan), 加熱, 加載偏壓；
樣品操(cao)作(zuo): 預抽(chou)真空(kong)室；
樣(yang)品(pin)尺寸: 1”、 2”、 3”、 4” 、8”、12”等；
膜厚監控: 石英晶體(ti)微天(tian)平(ping), 橢偏儀；
烘烤: 內置加熱或外置保溫加熱；
簡(jian)單方便 的全自(zi)動軟件操(cao)作(zuo)：全自(zi)動抽(chou)取(qu)真(zhen)空并且程序自(zi)動運行。