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光刻系統

  • MDA-400M光刻機
MDA-400M光刻機

MDA-400M光刻機

MDA-400M光刻機
光刻機又名:掩模對準曝光機,曝光系統,光刻系統,光刻機,紫外曝光機等;
MIDAS為全球領先的半導體設備供應商,多年來致力于掩模對準光刻機和勻膠機研發與生產,并且廣泛應用于半導體、微電子、生物器件和納米科技領域;該公司是目前世界上最早將光刻機商品化的公司之一,擁有雄厚的技術研發力量和設備生產能力;并且其設備被眾多著名企業、研發中心、研究所和高校所采用;以優秀的技術、精湛的工藝和良好的服務,贏得了用戶的青睞。

產地:韓國MIDAS公司,唯一能做到圖形化藍寶石襯底(PSS)光刻機,高性價比
型號:MDA-400M
廠家鏈接:http://www.midas-china.com.cn/


MDA-400M

易于操作(zuo)和安裝,處理各(ge)種尺寸的基板(ban),帶(dai)觸摸屏面板(ban)的PLC控制

?全(quan)手(shou)動類型(xing)

?掩模版尺寸(cun)達5英寸(cun)

?基板尺寸為4英(ying)寸圓(yuan)形(xing)

?均(jun)勻(yun)光束尺(chi)寸(cun)4.25*4.25英寸(cun)

?光(guang)源:紫(zi)外線燈,350 W

?光束(shu)波長350~450 nm

?光束均勻性<±3%

?365 nm強度 ~25 mW/?

?手動對準

?對準精度1 um

?操(cao)作模(mo)式:軟、硬(ying)、真空接觸和接近

?工藝分辨率 1 um@1 um PR厚度,帶真空觸點

?尺寸(mm)1080(寬(kuan))*1060(深(shen))*1580(高)



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