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光刻系統

  • MDA-400M光刻機
MDA-400M光刻機

MDA-400M光刻機

MDA-400M光刻機
光刻機又名:掩模對準曝光機,曝光系統,光刻系統,光刻機,紫外曝光機等;
MIDAS為全球領先的半導體設備供應商,多年來致力于掩模對準光刻機和勻膠機研發與生產,并且廣泛應用于半導體、微電子、生物器件和納米科技領域;該公司是目前世界上最早將光刻機商品化的公司之一,擁有雄厚的技術研發力量和設備生產能力;并且其設備被眾多著名企業、研發中心、研究所和高校所采用;以優秀的技術、精湛的工藝和良好的服務,贏得了用戶的青睞。

產地:韓國MIDAS公司,唯一能做到圖形化藍寶石襯底(PSS)光刻機,高性價比
型號:MDA-400M
廠家鏈接:http://www.midas-china.com.cn/


MDA-400M

易于(yu)操作和安(an)裝,處理各(ge)種尺寸的(de)基板,帶觸摸屏面(mian)板的(de)PLC控(kong)制(zhi)

?全手(shou)動(dong)類型

?掩(yan)模版尺寸達5英(ying)寸

?基板尺寸為4英(ying)寸圓形

?均(jun)勻(yun)光(guang)束尺寸4.25*4.25英寸

?光源:紫外(wai)線燈,350 W

?光束波長(chang)350~450 nm

?光束(shu)均勻性(xing)<±3%

?365 nm強度 ~25 mW/?

?手動對準

?對(dui)準精(jing)度1 um

?操作模(mo)式(shi):軟(ruan)、硬、真空(kong)接觸(chu)和接近(jin)

?工藝分辨率 1 um@1 um PR厚度,帶真空觸點

?尺寸(mm)1080(寬)*1060(深)*1580(高)



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