沉(chen)積用等離子體
大氣壓等離子體納米涂布及沉積
無需真空環境,在大氣壓下進行涂布、沉積。
特點
1. 在大氣壓下,達到真空等離子體的品質。
– In-line process
– 涂布速度快(~ 100mm/s)
– 高均勻涂膜
– 涂膜厚度可調
應用范圍
1. 研究/開發/生產試產品
– NANO / micro imprint lithography
– Ink Jet printing ( LCD, OLED, LED, Solar cell )
– MEMS
– Optic device
– Fuel cell / solar cell
– TFT
– Bio MEMS
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