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薄膜半導體材料制備系統

  • MOKE系統
MOKE系統

MOKE系統

MOKE系統

超(chao)高真(zhen)空系(xi)統用于對超(chao)薄磁膜(mo)和(he)多(duo)層電子(zi)束蒸發的(de)薄膜(mo)沉積進行現場實時(shi)磁光克(ke)爾效應(ying)研究。

  • 本底真空范圍 10-10mbar, 150°C烘烤
  • 垂直于樣品排列的磁極
  • 磁極間場域 > 0.17 特斯拉
  • 4 軸超高真空樣品操縱器,用于操作樣品夾具
  • 樣品加熱至800°C,以及使用液氮LN冷卻
  • MOKE室光學系統(調節器、極化器、光電探測器、激光)
  • 帶設備的整個腔室安裝在定位臺上
  • 真空手提箱,便于運輸

系統特點:

  • 沉積過程中的真空:~1x10-8 mbar
  • 沉積技術:電子束蒸發(EB)
  • 表征技術:MOKE
  • 厚度測量:使用石英晶體顯示器
  • 最大場域: ~0.3T
  • 電源: 400W
  • 模塊化設計允許連接沉積模塊(MBE、PLD、磁控濺射)或分析模塊(XPS、UPS、ARPES IR等)

上一個:大容量粉塵擴散發生器 下一個:MBE 系統

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