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光刻系統

  • MDA-20SA光刻機
MDA-20SA光刻機

MDA-20SA光刻機

MDA-20SA光刻機
光刻機又名:掩模對準曝光機,曝光系統,光刻系統,光刻機,紫外曝光機等;
MIDAS為全球領先的半導體設備供應商,多年來致力于掩模對準光刻機和勻膠機研發與生產,并且廣泛應用于半導體、微電子、生物器件和納米科技領域;該公司是目前世界上最早將光刻機商品化的公司之一,擁有雄厚的技術研發力量和設備生產能力;并且其設備被眾多著名企業、研發中心、研究所和高校所采用;以優秀的技術、精湛的工藝和良好的服務,贏得了用戶的青睞。

產地:韓國MIDAS公司,唯一能做到圖形化藍寶石襯底(PSS)光刻機,高性價比
型號:MDA-20SA
廠家鏈接:http://www.midas-china.com.cn/


MDA-20SA

操(cao)作簡單,可編程控制器(PLC)操(cao)作,PC控制,圖像采集和數據記(ji)錄,100多個程序(xu)配(pei)方(fang),電(dian)動操(cao)縱桿控制,電(dian)動變(bian)焦顯(xian)微鏡和工作臺(tai),顯(xian)微鏡位(wei)置控制系統


操縱桿控(kong)制,半自動

掩模版尺寸(cun)規格,用戶訂制

基板尺寸規格(大面積),用戶訂制

均勻(yun)光束規格(ge),用戶訂制

紫(zi)(zi)外線光源(yuan):紫(zi)(zi)外線燈(deng),5 kW

光束波長350~450 nm

光(guang)束均勻度<±7%

365 nm強度5 kW: ~45 mW/?

對準方法(fa):操縱手(shou)柄控制半自(zi)動

對準精度1 um

工藝模式(shi):軟、硬、真空(kong)接觸和(he)接近

分辨率:透鏡 >3 um,反射鏡:>9 um


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