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光刻系統

  • MDA-20SA光刻機
MDA-20SA光刻機

MDA-20SA光刻機

MDA-20SA光刻機
光刻機又名:掩模對準曝光機,曝光系統,光刻系統,光刻機,紫外曝光機等;
MIDAS為全球領先的半導體設備供應商,多年來致力于掩模對準光刻機和勻膠機研發與生產,并且廣泛應用于半導體、微電子、生物器件和納米科技領域;該公司是目前世界上最早將光刻機商品化的公司之一,擁有雄厚的技術研發力量和設備生產能力;并且其設備被眾多著名企業、研發中心、研究所和高校所采用;以優秀的技術、精湛的工藝和良好的服務,贏得了用戶的青睞。

產地:韓國MIDAS公司,唯一能做到圖形化藍寶石襯底(PSS)光刻機,高性價比
型號:MDA-20SA
廠家鏈接:http://www.midas-china.com.cn/


MDA-20SA

操作簡單,可編程(cheng)控制器(qi)(PLC)操作,PC控制,圖像(xiang)采集和數(shu)據(ju)記錄(lu),100多個程(cheng)序配方,電動(dong)操縱(zong)桿(gan)控制,電動(dong)變焦顯微(wei)鏡和工作臺,顯微(wei)鏡位置控制系統


操縱桿控制,半自動

掩(yan)模版尺寸規格,用戶訂制

基(ji)板尺(chi)寸規格(大面積),用戶訂(ding)制

均勻光束(shu)規格,用戶(hu)訂(ding)制(zhi)

紫外線光源(yuan):紫外線燈,5 kW

光束(shu)波長350~450 nm

光束均勻度(du)<±7%

365 nm強(qiang)度5 kW: ~45 mW/?

對準方法:操(cao)縱手柄控(kong)制半(ban)自動

對準精度1 um

工藝模(mo)式:軟、硬、真(zhen)空接觸和接近(jin)

分辨率:透鏡 >3 um,反射鏡:>9 um


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