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光刻系統

  • PL SERIES納米壓印系統
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PL SERIES納米壓印系統

PL SERIES

Midas推(tui)出了一(yi)種(zhong)臺式、獨立的納米(mi)壓印平臺:PL系列PL 200/400/600。該平臺提(ti)供了一(yi)個帶(dai)有微定位(wei)裝(zhuang)置的機械平臺,用(yong)于(yu)安裝(zhuang)納米(mi)壓印室、UV固化源和校準(zhun)顯微鏡(jing)。它既可(ke)以(yi)(yi)作為納米(mi)壓印系統(tong),也可(ke)以(yi)(yi)作為傳統(tong)的掩模對準(zhun)器,同時為您的整個壓印過(guo)程提(ti)供可(ke)編程的自動控制。

?基板尺寸 PL 200:2英寸,PL 400:4英寸,PL 600:6英寸(尺寸較小,形狀不規則)

?壓印面積(ji)與(yu)晶圓尺寸相同

?模板尺寸  PL 200:2,1英寸,PL 400:4,3,1英寸,PL 600:6,4,2,1英寸

?壓印壓力1 psi標準

?包(bao)括模(mo)具/基板(ban)自(zi)動釋放-無(wu)需(xu)特殊(shu)工具

?95%強度(du)水(shui)平下的紫(zi)外線(xian)照射(she)時間2~3分鐘(zhong)

?對準能力X、Y、Z和θ(精度2μm)


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